氧化铝陶瓷卡盘凭借无应力、超洁净、真空兼容的特性,成为半导体、面板、光学等精密制造中薄片工件在真空/等离子体/高温环境下实现稳定、无损、高精度夹持的最优方案。运用各类先进技术,构建了从产品开发、试样试制到批量落地的全流程能力,能够快速响应并精准满足客户的定制化需求。
凭借无应力、超洁净、真空兼容的核心特性,氧化铝陶瓷卡盘是半导体、面板、光学等高端制造领域中,薄片工件在真空/等离子体/高温环境下实现稳定、无损、高精度夹持的最优选择。我们具备从产品开发、试样试制到批量落地的全流程服务能力,可快速响应并精准满足客户定制化需求。
采用层压技术实现极高的面内温度均一性。
通过使用高纯度的氧化铝可以降低金属污染。
在卤素气体等等离子体环境下发挥出出色的耐久性。
通过陶瓷内部预置金属电极并一体化熔结成型,我们开发出系列化静电卡盘(Electrostatic Chucks)与陶瓷加热器,可稳定适配等离子体环境、电子线应用等严苛工况,从开发、试做阶段即可交付符合客户用途的定制化产品。
| 参数项 | 参数值 |
|---|---|
| 尺寸(L×W) | 按图加工 |
| 厚度 | 按需定制 |
| 介电常数 | 场景适配 |
| 体密度 | 3.6 g/cm3 |
| 表面粗糙度 | 按图加工 |